お知らせ
| 共通 | 利用申請書の提出と実験装置取扱い講習会で取扱いを習得してからの利用となります。 学外の方が使用する場合、システムで表示される料金とは異なる可能性がありますので、 実際の利用料金は以下でご確認ください。 コチラのサイト |
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設備の詳細情報
| ID | 763 |  | ||
|---|---|---|---|---|
| 設備名 | プラズマCVD装置 | |||
| 型式 | PD-220N | |||
| メーカー | サムコ | |||
| 設備分野 | 材料プロセス | |||
| 設備紹介URL | - | |||
| 設備概要 | ・基板加熱：抵抗加熱式 (常用300℃) ・適正ウェハ寸法：最大8インチ径 ・液体原料：TEOS | |||
| 設置場所 | ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー (VBL) 1階107 | |||
| 部局名 | 工学研究科 | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | DII協働卓越大学院プログラム | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | 本システムから予約 | |||
| お問合せ先等 | http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/index.html | |||
利用制限
| 予約：機構内 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>非営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：特例>設備管理者利用 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から54 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 不要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | × |
設備利用料金
| 予約：機構内 | 単価4200円 単位60分 キャンセル料なし |
|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価4200円 単位60分 キャンセル料なし |
| 予約：機構外>営利 | 単価4700円 単位60分 キャンセル料なし |
| 予約：特例>設備管理者利用 | 単価0円 単位60分 キャンセル料なし |