お知らせ
| 共通 | 利用申請書の提出と実験装置取扱い講習会で取扱いを習得してからの利用となります。 学外の方が使用する場合、システムで表示される料金（表示は直接測定、データ登録ありの場合）とは異なる可能性がありますので、 実際の利用料金は以下でご確認ください。 コチラのサイト 「利用資格申請」の前にinfo@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jpに問い合わせをお願いします。 Please send e-mail to "info@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp" before "Use qualification application." 予約時にはコメント欄にARIM課題番号（〇〇NU〇〇〇〇）を入力してください。 At the time of reservation, please input ARIM proposal No. (xxNUxxxx) in "Comment" section. |
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設備の詳細情報
| ID | 759 |  | ||
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| 設備名 | 反応性イオンエッチング装置 | |||
| 型式 | RIE-10NR | |||
| メーカー | サムコ株式会社 | |||
| 設備分野 | 微細加工 | |||
| 設備紹介URL | - | |||
| 設備概要 | 半導体以外も基本は可、 基板サイズ： 最大8インチ プロセスガス： CF4, O2 高周波電源： 13.56 MHz、Max. 300W | |||
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設112(クリーンルーム) | |||
| 部局名 | 未来材料・システム研究所 | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | - | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | 本システムから予約 | |||
| お問合せ先等 | info@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp | |||
利用制限
| 予約：機構内 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 30 分 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 予約可能期限 | 本日から28 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>非営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 30 分 |
| 予約可能期限 | 本日から28 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 30 分 |
| 予約可能期限 | 本日から28 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | × |
設備利用料金
| 予約：機構内 | 単価1900円 単位60分 キャンセル料なし |
|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価2000円 単位60分 キャンセル料なし |
| 予約：機構外>営利 | 単価2500円 単位60分 キャンセル料なし |