設備ID=696

お知らせ

共通	利用申請書の提出と実験装置取扱い講習会で取扱いを習得してからの利用となります。学外の方が使用する場合、システムで表示される料金とは異なる可能性がありますので、実際の利用料金は以下でご確認ください。コチラのサイト利用資格申請の前に問い合わせをお願いします。
予約：機構内	利用許可が出た方のみ使用できます。
予約：機構外>非営利	利用許可が出た方のみ使用できます。システムで表示される利用料とは異なる可能性があります。詳しくはARIMホームページで確認してください。
予約：機構外>営利	利用許可が出た方のみ使用できます。システムで表示される利用料とは異なる可能性があります。詳しくはARIMホームページで確認してください。

設備の詳細情報

ID	696
設備名	マスクレス露光装置
型式	PALET DDB-701-DL4
メーカー	ネオアーク株式会社
設備分野	微細加工
設備紹介URL	-
設備概要	露光領域：100 mm x 100 mm（約4インチ）、最小露光線幅：3μm、光源：365 nm LED、ワークサイズ：最大φ150 mm、厚み10mm、ステージ：電動XYZθステージ、対物レンズ：2倍、10倍（選択可）
設置場所	先端技術共同研究施設
部局名	未来材料・システム研究所
管理施設・講座名（利用料振込先）	-
共用対象	機構内外
予約方法	本システムから予約
お問合せ先等	info@nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp

利用制限

予約：機構内	利用可能日	一年中	利用可能時間帯	00:00～24:00	予約単位	30 分
	予約可能期限	本日から28 日	期限内予約時間制限	制限なし	予約利用	○
	利用資格申請	要	予約時承認	不要	作業依頼	×
予約：機構外>非営利	利用可能日	一年中	利用可能時間帯	00:00～24:00	予約単位	60 分
	予約可能期限	本日から28 日	期限内予約時間制限	制限なし	予約利用	○
	利用資格申請	要	予約時承認	不要	作業依頼	×
予約：機構外>営利	利用可能日	一年中	利用可能時間帯	00:00～24:00	予約単位	60 分
	予約可能期限	本日から28 日	期限内予約時間制限	制限なし	予約利用	○
	利用資格申請	要	予約時承認	不要	作業依頼	×
予約：特例>設備管理者	利用可能日	一年中	利用可能時間帯	00:00～24:00	予約単位	60 分
	予約可能期限	本日から0 日	期限内予約時間制限	制限なし	予約利用	○
	利用資格申請	不要	予約時承認	不要	作業依頼	×
依頼：機構外>非営利	利用可能日	一年中	利用可能時間帯	00:00～24:00	予約単位	60 分
	予約可能期限	本日から28 日	期限内予約時間制限	制限なし	予約利用	○
	利用資格申請	要	予約時承認	不要	作業依頼	○
依頼：機構外>営利	利用可能日	一年中	利用可能時間帯	00:00～24:00	予約単位	60 分
	予約可能期限	本日から28 日	期限内予約時間制限	制限なし	予約利用	○
	利用資格申請	要	予約時承認	不要	作業依頼	○

設備利用料金

予約：機構内	単価1300円　単位60分　キャンセル料なし
予約：機構外>非営利	単価2200円　単位60分　キャンセル料なし
予約：機構外>営利	単価2700円　単位60分　キャンセル料なし
予約：特例>設備管理者	単価0円　単位60分　キャンセル料なし
依頼：機構外>非営利	単価6300円　単位60分　キャンセル料なし
依頼：機構外>営利	単価7200円　単位60分　キャンセル料なし