お知らせ
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設備の詳細情報
| ID | 643 | No Image | ||
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| 設備名 | 誘導結合プラズマ発光分析装置（ICP-AES） | |||
| 型式 | ULTIMA2 | |||
| メーカー | 堀場製作所 | |||
| 設備分野 | 分析 | |||
| 設備紹介URL | https://www1.gifu-u.ac.jp/~lsrc/dia/instrument/ICP.html | |||
| 設備概要 | ULTIMA2はArの高周波誘導結合プラズマを励起源としており、無機物や有機物中の75元素を同時に測定できる超高感度元素分析装置である。自己吸収が殆どなく、ダイナミックレンジは106と広いので、試料中の主成分から極微量成分まで分析することが可能である。試料も少なくてすみ、1分間当たり1 mlの注入量にて2分程度で、元素の種類と各々の含有量を分析できる。 | |||
| 設置場所 | 東海国立大学機構岐阜大学総合研究棟2 1階 機器分析室(7) | |||
| 部局名 | - | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | 東海国立大学機構岐阜大学 高等研究院 科学研究基盤センター 機器分析分野 | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | メール予約 | |||
| お問合せ先等 | kiki@gifu-u.ac.jp （科学研究基盤センター 機器分析分野） | |||