お知らせ
| 共通 | 利用には事前の課題選定があります |
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設備の詳細情報
| ID | 38 |  | ||
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| 設備名 | イオンビーム試料作製装置（FIB） | |||
| 型式 | JEM-9320 | |||
| メーカー | 日本電子株式会社 | |||
| 設備分野 | 加速電圧：30kV 機能：集束したGa イオンを試料に照射し薄膜化 観察材料：金属材料、セラミックスなど | |||
| 設備紹介URL | http://hvem.nagoya-microscopy.jp/ | |||
| 設備概要 | 集束したGa イオンを試料に照射し試料を薄膜化 | |||
| 設置場所 | 超高圧電子顕微鏡室 | |||
| 部局名 | 未来材料・システム研究所 | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | 超高圧電子顕微鏡施設 | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | メール予約 | |||
| お問合せ先等 | http://hvem.nagoya-microscopy.jp/ | |||
利用制限
| 予約：機構内 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 09:00～17:00 | 予約単位 | 240 分 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 予約可能期限 | 本日から7 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ | |
| 予約：機構外>非営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 09:00～17:00 | 予約単位 | 240 分 |
| 予約可能期限 | 本日から7 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ | |
| 予約：機構外>営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 09:00～17:00 | 予約単位 | 240 分 |
| 予約可能期限 | 本日から7 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ |
設備利用料金
| 予約：機構内 | 単価900円 単位60分 キャンセル料なし |
|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価1900円 単位60分 キャンセル料なし |
| 予約：機構外>営利 | 単価3500円 単位60分 キャンセル料なし |