お知らせ
| 共通 | 利用には事前の課題選定があります |
|---|---|
| 予約：機構内 | 直接測定のみとなります |
| 予約：機構外>非営利 | 測定は直接測定、依頼測定と立ち会い測定があります。研究成果非公開使用料は１時間当り2000円別途加算いたします。 |
| 予約：機構外>営利 | 測定は直接測定、依頼測定と立ち会い測定があります。研究成果非公開利用料金は１時間当り4500円別途加算いたします。 |
設備の詳細情報
| ID | 35 |  | ||
|---|---|---|---|---|
| 設備名 | 集束イオン研磨装置（FIB） | |||
| 型式 | FB-2100 | |||
| メーカー | 日立ハイテクノロジーズ株式会社 | |||
| 設備分野 | 加速電圧：40kV 機能：集束したGa イオンを試料に照射し薄膜化 観察材料：金属材料、セラミックスなど | |||
| 設備紹介URL | http://hvem.nagoya-microscopy.jp/ | |||
| 設備概要 | 集束したGa イオンを試料に照射し試料を薄膜化 | |||
| 設置場所 | 超高圧電子顕微鏡室 | |||
| 部局名 | 未来材料・システム研究所 | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | 超高圧電子顕微鏡施設 | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | メール予約 | |||
| お問合せ先等 | http://hvem.nagoya-microscopy.jp/ | |||
利用制限
| 予約：機構内 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 09:00～17:00 | 予約単位 | 480 分 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 予約可能期限 | 本日から7 日 | 期限内予約時間制限 | 8時間 | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>非営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 09:00～17:00 | 予約単位 | 480 分 |
| 予約可能期限 | 本日から7 日 | 期限内予約時間制限 | 8時間 | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ | |
| 予約：機構外>営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 09:00～17:00 | 予約単位 | 480 分 |
| 予約可能期限 | 本日から7 日 | 期限内予約時間制限 | 8時間 | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ |
設備利用料金
| 予約：機構内 | 単価1800円 単位60分 キャンセル料なし |
|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価3100円 単位60分 キャンセル料なし |
| 予約：機構外>営利 | 単価6400円 単位60分 キャンセル料なし |
オプション利用料金
| オプション | 研究成果非公開使用料 | ||
|---|---|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価3800円 単位60分 キャンセル料なし | 備考 | |
| 予約：機構外>営利 | 単価7700円 単位60分 キャンセル料なし | 備考 | |