設備の詳細情報
| ID | 222 |  | ||
|---|---|---|---|---|
| 設備名 | ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 | |||
| 型式 | SS/MRI-N | |||
| メーカー | NUエコ・エンジニアリング社製 | |||
| 設備分野 | エッチング加工、分析 | |||
| 設備紹介URL | http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/equipment3.html#38 | |||
| 設備概要 | 基板温度、ラジカル、マルチ分光器、FTIRを用いてエッチングの際に生成する温度、ラジカル密度、励起種、表面分析をIn-situで行う。 プロセスガス：H2、N2、Ar、O2、He 基板温度：－10℃-60℃ サンプル：Si、4インチウエハ | |||
| 設置場所 | NIC 4階410 | |||
| 部局名 | 低温プラズマ科学研究センター | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | 低温プラズマ科学研究センター | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | メール予約 電話予約 | |||
| お問合せ先等 | http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/index.html | |||
利用制限
| 予約：機構内 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 予約可能期限 | 本日から30 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>非営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から30 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から30 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 依頼：機構内 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から30 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ | |
| 依頼：機構外>非営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から30 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ | |
| 依頼：機構外>営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から30 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ |
設備利用料金
| 予約：機構内 | 単価1600円 単位60分 キャンセル料なし |
|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価1900円 単位60分 キャンセル料なし |
| 予約：機構外>営利 | 単価2500円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構内 | 単価1600円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構外>非営利 | 単価4200円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構外>営利 | 単価5100円 単位60分 キャンセル料なし |