お知らせ
| 共通 | 四半期毎の請求で、企業は決算期により３月前倒し請求になることがあります。 |
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設備の詳細情報
| ID | 202 |  | ||
|---|---|---|---|---|
| 設備名 | 8元MBE装置 | |||
| 型式 | ||||
| メーカー | ||||
| 設備分野 | 成膜 | |||
| 設備紹介URL | http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/equipment1.html#14 | |||
| 設備概要 | 蒸着源：4cc蒸着源4個、2cc蒸着源2個 試料サイズ30 mm角 高圧電源3台 基板加熱：1000℃ 1kV Arイオンエッチング機構 25 kV RHEED表面観察機能 | |||
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設151(実験室） | |||
| 部局名 | 未来材料・システム研究所 | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | 未来材料・システム研究所高度計測技術実践センター | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | メール予約 | |||
| お問合せ先等 | http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/index.html | |||
利用制限
| 予約：機構内 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 09:00～20:00 | 予約単位 | 60 分 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 予約可能期限 | 本日から90 日 | 期限内予約時間制限 | 80時間 | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>非営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 09:00～20:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から90 日 | 期限内予約時間制限 | 80時間 | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>営利 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 09:00～20:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から90 日 | 期限内予約時間制限 | 80時間 | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | × | |
| 依頼：機構内 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から90 日 | 期限内予約時間制限 | 80時間 | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ | |
| 依頼：機構外>非営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から90 日 | 期限内予約時間制限 | 80時間 | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ | |
| 依頼：機構外>営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から90 日 | 期限内予約時間制限 | 80時間 | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 要 | 作業依頼 | ○ |
設備利用料金
| 予約：機構内 | 単価1800円 単位60分 キャンセル料なし |
|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価2000円 単位60分 キャンセル料なし |
| 予約：機構外>営利 | 単価2900円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構内 | 単価1800円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構外>非営利 | 単価5700円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構外>営利 | 単価7000円 単位60分 キャンセル料なし |