お知らせ
| 共通 | 利用申請書の提出と実験装置取扱い講習会で取扱いを習得してからの利用となります。 |
|---|---|
| 予約：機構内 | ８時間以上の利用料は１回当たり6,800円となります。四半期毎の請求で１〜３月期は翌年度請求となります。 |
設備の詳細情報
| ID | 102 |  | ||
|---|---|---|---|---|
| 設備名 | レーザー描画装置 | |||
| 型式 | DWL-66Fs | |||
| メーカー | 〈株）日本レーザー | |||
| 設備分野 | 微細加工 | |||
| 設備紹介URL | http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/equipment.html | |||
| 設備概要 | 最小描画サイズ：0.6μm、直描、ガラスマスク作製 | |||
| 設置場所 | ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー(VBL)１F101 | |||
| 部局名 | 工学研究科 | |||
| 管理施設・講座名（利用料振込先） | ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | |||
| 共用対象 | 機構内外 | |||
| 予約方法 | Web予約 | |||
| お問合せ先等 | http://nanofab.engg.nagoya-u.ac.jp/equipment.html | |||
利用制限
| 予約：機構内 | 利用可能日 | 一年中 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>非営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | × | |
| 予約：機構外>営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | ○ | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | × | |
| 依頼：機構内 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | ○ | |
| 依頼：機構外>非営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | ○ | |
| 依頼：機構外>営利 | 利用可能日 | 名大稼働日 | 利用可能時間帯 | 00:00～24:00 | 予約単位 | 60 分 |
| 予約可能期限 | 本日から14 日 | 期限内予約時間制限 | 制限なし | 予約利用 | × | |
| 利用資格申請 | 要 | 予約時承認 | 不要 | 作業依頼 | ○ |
設備利用料金
| 予約：機構内 | 単価1600円 単位60分 キャンセル料なし |
|---|---|
| 予約：機構外>非営利 | 単価1700円 単位60分 キャンセル料率100% キャンセルフリー1日前まで |
| 予約：機構外>営利 | 単価2400円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構内 | 単価1600円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構外>非営利 | 単価304600円 単位60分 キャンセル料なし |
| 依頼：機構外>営利 | 単価5600円 単位60分 キャンセル料なし |